直讀光譜儀，目前常用的光源有以下兩種：一是經(jīng)典光源包括電弧及火花光源，二是等離子體光源居多。其中在冶金分析中廣泛應(yīng)用的有高壓控波光源、低壓火花高速光源和高能預(yù)火花光源。那么光譜分析常用光源的放電方式有哪些呢？
1. 高能預(yù)火花放電最大電流可達(dá)150安和燃燒時(shí)間為150微秒，這樣使試樣中燃燒斑點(diǎn)內(nèi)的組織結(jié)構(gòu)更加均勻，由此來(lái)消除元素之間干擾及元素之間結(jié)合等效應(yīng)。
2.火花型放電對(duì)大多數(shù)元素重現(xiàn)性好。
3.電弧型放電重現(xiàn)性要比火花放電差2—3倍，但對(duì)痕量元素檢出限要低得多。
因此在選擇光源時(shí)應(yīng)盡量滿足以下要求：
1.高靈敏度，隨著樣品中元素濃度微小變化，其檢出的信號(hào)有較大的變化；
2.低檢出限，能對(duì)微量及痕量成分進(jìn)行檢驗(yàn)；
3.良好的穩(wěn)定性，試樣能穩(wěn)定的蒸發(fā)、原子化和激發(fā)，使結(jié)果具有較高的精密度：
4.譜線強(qiáng)度與背景強(qiáng)度之比大(信噪比大)；
5. 分析速度快，預(yù)燃時(shí)間短；
6.構(gòu)造簡(jiǎn)單，容易操作，安全；
7.自吸收效應(yīng)小，校準(zhǔn)曲線的線性范圍寬。
光源激發(fā)條件的選擇是由分析對(duì)象經(jīng)過試驗(yàn)來(lái)決定的。不同的試樣在不同的光源下，它的預(yù)燃時(shí)間是不一樣的，因?yàn)樵嚇釉诨鸹ǚ烹姇r(shí)的蒸發(fā)過程，它不僅與光源的能量、放電氣氛密切有關(guān)以外，還與試樣組成、結(jié)構(gòu)狀態(tài)、夾雜物種類、大小等等密切有關(guān)。
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